芯颐和（米莱芯程子公司）首套iline曝光光学系统顺利发运，国产光刻光学子系统迈入批量交付阶段

6日30日，上海芯颐和科技有限公司（上海米莱芯程半导体有限公司全资子公司）传来重大进展—其自主研发制造的首套iline照明系统（IL）与首套iline投影物镜（PO）完成打包发运，将交付于国内头部光刻机厂商。

整套光学系统正式迈入批量交付阶段，标志着芯颐和在国内半导体光刻光学子系统领域实现了从技术攻关到产业化落地的关键跨越。

图1：首套iline照明系统发运现场图

图2：首套iline投影物镜发运现场图

本次交付的曝光系统采用365nm的iline光源，数值孔径NA为0.45～0.6，最大曝光视场为22mm×22mm，全套光学系统均为自主正向设计。

两套核心光学部件同步交付，充分验证了芯颐和自研iline光学系统的工程可靠性与量产交付能力，为后续批量订单的交付积累了成熟的工艺、装调与供应链管理经验。此次交付也填补了国内高端iline光刻光学成套设备自主供给的缺口，为国产成熟制程光刻机产业链的自主可控提供了关键支撑。

芯颐和是上海米莱芯程半导体有限公司的全资子公司。米莱芯程主营业务为投影式曝光设备，掌握全流程的系统设计技术以及千余个细分步骤的整机软硬件集成、整机标定及性能调试的系统集成技术，且具备成功的实操经验。芯颐和作为其光学系统研发与制造平台，光学产品覆盖高中低端三类，承担着“整机需求牵引、光学自主配套”的关键角色。

公司核心团队具备深厚的技术积淀。创始人兼技术负责人高安曾在ASML任职，参与过DUV和EUV投影式光刻机相关工作（EUV中负责掩模板污染检测等，DUV中负责硅片对准等）；2023年创办芯颐和。

芯颐和依托母公司的整机系统需求，搭建起“前端科研攻关、后端产业化落地”的高效成果转化机制——米莱芯程聚焦光刻机整机系统工程，输出应用需求与技术规范；芯颐和承接光学子系统研发、量产与交付，打通了实验室技术到产业化产品的转化通道，形成了研发支撑量产、量产反哺迭代的良性循环。

目前，芯颐和正按计划推进多批次光学系统的排产交付，产品线从前道光刻、先进封装、玻璃载板到光伏应用持续拓展，批量交付能力稳步提升。

据悉，上市公司联合化学（301209）是芯颐和母公司米莱芯程的重要股东，目前持有其37.276%的股权，累计投资金额3.2亿元。

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